做光源的叫做科道虹源。
光学镜片是由墨子光学在做。
euv技术已经被太平洋对岸那边视为其半导体行业发展的核心技术。
可陈怀庆很坚信的一点，那就是华国的聪明人多啊！
只要有明确的技术路径，再加上充足的研发投入，那么就肯定能够搞出来。
但是，陈怀庆可并不只是满足这点。
光是墨塔半导体的需求，就足以是满足墨塔微电的发展需要。
但是一般情况下，闭门造车的产物，有着各种的问题。
iter还别说，人家的确是自己搞过光刻机。
在去年的时候，北美那边牵头成立了euvllc联盟，联盟内有着相当多的知名企业iter、摩托拉、amd、ibm以及三大实验室等。
比如说采用157nm的f2激光。
工作台的研发是墨塔微电自己进行的，光源系统和光学镜头是由其他企业进行的。
专业的事情，最终还是得要让专业的人来干。
墨塔半导体采购光刻机，自然也不是全部都采购自墨塔微电。
闭门造车出门合辙！
还是会从尼康采购一定量的光刻机产品，甚至从其他厂商那边采购上一些。
如果墨塔微电按照现在的技术路线走下去的话，可以肯定的一点，保证10纳米芯片的生产还是能够做到的。
陈怀庆在离开墨塔微电之后，就去了科道虹源。
反正都已经这样了，为了活下去，什么条件都是能够答应。
没别的目的，就拿来用上一下，感受下。
既然是核心技术，那么自然就得要自己掌握才行。
在这个时候，如果能够借鉴上一下，那么自然就更为好了。
实际上对于euv光刻机的技术研发，墨塔微电也是早就已经在推进。
iter自己搞光刻机？
反正对于euv光刻机实际上在需求上面来讲，并不是那么的急迫，用二十多年来弄，这总是没有问题吧？
陈怀庆最终还是觉得，优先满足墨塔半导体更加的重要。
特别随着精度的不断推进，稍微一点的振动，就会影响光刻效果。
人类的事情，那都不光是技术能够解决的。
光刻机有三大核心技术：光源系统、光学镜头和工作台。
因为整个公司四百六十多号人，技术研发人员就有四百四十多人。
科道虹源算不得什么大公司，甚至在外界，根本就没有多少人知道这家公司。
2010年的时候，193nm光源的沉浸式光刻机还能够生产11nm制程工艺的芯片。
墨塔微电的竞争对手主要还是在霓虹和欧洲。
科道虹源生产的光刻机光源，就是墨塔微电的底气所在。
只不过早在80年代，就已经被尼康打得七零八落，现在属于烂泥扶不上墙的阶段。
不少人认为，euv光刻机依靠一国的力量是搞不出来。
对此，陈怀庆只能够说，那是没有遇到我们。
华国有足够多的智力资源来做已知人类科技的任何研究。
当然，现在华国的智力资源还是有着很大的不足。
或者说，智力资源的潜力，还没有是完全的开拓出来。